俄自研EUV光刻机曝光：11.2nm光源 每小时处理60片12吋晶圆
12月21日消息，据Cnews报导，俄罗斯已公布自主研发的光刻机路线图，目标是打造比ASML系统更经济的EUV光刻机。这些光刻机将采用波长为11.2nm的镭射光源，而非ASML 使用的标准13.5...
zhiyongz
2024-12-21 20:09:48阅读：38
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