重大突破！芯片光刻胶关键技术被攻克：原材料全部国产 配方全自主设计
快科技10月25日消息，据华中科技大学官微消息，近日，该校武汉光电国家研究中心团队，在国内率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方，助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。据介绍，其研发的T150A光刻胶系...
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2024-10-25 15:07:46阅读：88
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